鎂及鎂合金是目前所知工程材料中*輕的金屬。 與其它工程材料相比,鎂合金是金屬,具有金屬的特質(zhì),具有很高的比強(qiáng)度和比鋼度,被譽(yù)為 21世紀(jì)的金屬,又由于其質(zhì)量輕,同一重量下生成的零件多且價(jià)格便宜,近年來在電子、汽車、航空航天等領(lǐng)域得到一定的發(fā)展,而且發(fā)展前景越來越好,但鎂合金容易氧化,耐蝕性較差,是制約其發(fā)揮優(yōu)勢(shì)的一個(gè)主要因素,采用微弧氧化技術(shù)又稱微弧放電氧化 (Micro-arc Discharge Oxidation, MDO)可以解決這一問題。 該方法是將壓鑄鎂合金鑄件**浸到硅酸鹽溶液內(nèi),引入脈沖電源,使其高壓放電,并在陽*區(qū)產(chǎn)生等離子微弧放電,火花放電使陽*表面局部溫度升高,微區(qū)溫度高于 3000 ℃,從而使陽*氧化物熔覆于金屬表面,形成陶瓷質(zhì)的陽*陶瓷層,*大提高了膜層的綜合性能。 但一些資料提供的工藝參數(shù)只在實(shí)驗(yàn)室下獲得,未見生產(chǎn)應(yīng)用,且大多只局限于小型工件范圍內(nèi),如在電源系統(tǒng)輸出電流為 100~300 A 時(shí),一次性處理面積僅為0.05~0.20 m2。 而對(duì)于大型的鎂合金工件(表面積在0.5 m2以上)進(jìn)行微弧氧化時(shí),也有相關(guān)報(bào)道,但未見生產(chǎn)應(yīng)用效果。
1 微弧氧化技術(shù)電解車間工藝管線設(shè)計(jì)及所用主要設(shè)備
1.1 微弧氧化技術(shù)電解車間工藝管線設(shè)計(jì)
1.2 微弧氧化技術(shù)所用的主要設(shè)備
自制的 MAO-400 微弧氧化電源是微弧氧化生產(chǎn)線的關(guān)鍵,為超大功率脈沖電源。正電壓*大值可達(dá) 600 V, 負(fù)電壓*大值可達(dá) 400 V, 脈沖頻率從100~1 000 Hz 可調(diào),正脈沖個(gè)數(shù)從 1~100 可調(diào),負(fù)脈沖個(gè)數(shù)從 1~20 可調(diào),占空比從 10%~90%可調(diào),可以同時(shí)加工 3~4 個(gè)總面積達(dá) 2 m2的鎂合金輪轂,總處理表面積達(dá) 8 m2,陶瓷層*大厚度達(dá) 40 μm。在調(diào)試中,設(shè)備運(yùn)行比較穩(wěn)定,安全性能較好,遇到意外情況可及時(shí)切斷電源,達(dá)到保護(hù)設(shè)備的目的。 同時(shí),該設(shè)備還可以對(duì)鋁合金等其他金屬進(jìn)行微弧氧化表面處理,調(diào)試結(jié)果同樣可以達(dá)到用戶的要求。*終對(duì)加工過的鎂合金輪轂進(jìn)行質(zhì)量鑒定,陶瓷層的厚度、硬度、光潔度均達(dá)到了使用的要求。
和電源一樣, 也是微弧氧化技術(shù)生產(chǎn)線的關(guān)鍵設(shè)備。 電解槽尺寸為 800 mm×1 100 mm×1 600 mm,有效容積為0.9 m3, 能同時(shí)處理 3~4 個(gè)大型鎂合金壓鑄模輪轂。 電解液的流量保持在 15 m3/h,電解槽和中間槽的總有效體積為 6 m3左右, 可以滿足攪拌、流動(dòng)、冷卻等要求。電解液為堿性溶液,能腐蝕鐵等不耐堿的金屬,故選用塑料做電解槽箱體材料。工作時(shí)陽*經(jīng)常吊裝, 工作電壓在 200 V 左右屬于高壓,在電*的兩頭安裝了安全保護(hù)裝置,防止觸電。內(nèi)部的攪拌和循環(huán)系統(tǒng)用來提高電解液的均勻性并起到冷卻電解液及消電離。電解液中間槽同電解槽的材質(zhì)一樣, 工作過程是封閉的,保證電解液清潔。
冷卻塔采用廢棄的較大型油罐改裝而成, 通過熱交換器進(jìn)行能量交換,再通過冷卻塔進(jìn)行冷卻,保證電解液適宜的溫度。
2 微弧氧化處理工藝
汽車工業(yè)學(xué)會(huì)對(duì)運(yùn)動(dòng)部件鎂合金壓鑄鑄件有質(zhì)量要求,特別是耐蝕、抗磨、抗劃傷性能,其次是表面光潔,基于以上要求,結(jié)合微弧氧化技術(shù)的特點(diǎn),本課題組設(shè)計(jì)了微弧氧化技術(shù)生產(chǎn)管線, 研究了該技術(shù)的微弧氧化機(jī)理以及工藝參數(shù), 在鎂合金壓鑄模鑄件表面生成了表面光潔的白色的抗腐蝕性、高硬度均較好的的陶瓷層。
2.1 微弧氧化機(jī)理
首先把鎂合金壓鑄模鑄件放入到硅酸鹽溶液中, 采用交流雙脈沖微弧氧化電源在鎂合金壓鑄模鑄件表面產(chǎn)生微弧放電電火花,瞬時(shí)溫度達(dá)到 3000 ℃以上,直接把鎂合金氧化燒結(jié),成功的在AM 60B 鎂合金壓鑄模鑄件(陽*)上沉積出硅酸鹽陶瓷層,而陰*電流可以不斷地減薄膜層, 以保證陶瓷層的質(zhì)量。該陶瓷層堅(jiān)硬且表面光滑,既有高的耐磨性及耐蝕性能,又保持了陶瓷與基體的結(jié)合力。 與噴漆、自蔓延高溫合成、鉻化電鍍等表面處理方法比較,克服了表面膜層致密性差和結(jié)合力不強(qiáng)等缺點(diǎn)。
2.2 研究方法及工藝流程
通過增加鎂合金壓鑄模鑄件表面微弧氧化預(yù)處理,改變硅酸鹽電解液配方,調(diào)整微弧氧化技術(shù)設(shè)備工藝參數(shù)等方式, 獲得硅酸鹽陶瓷層的金相組織和使用性能,通過金相顯微鏡及鹽霧試驗(yàn)檢測(cè),進(jìn)行觀察和檢測(cè)陶瓷層的微觀組織和表面質(zhì)量。
工藝流程為: 改變電解液配方→設(shè)定微弧氧化技術(shù)設(shè)備工藝參數(shù)→鎂合金壓鑄模鑄件堿洗 (除去輪轂表面油污)→清水槽清洗→直流電源建立陶瓷層(微弧氧化前預(yù)處理)→微弧氧化技術(shù)處理(15~20 min)→清水槽再次清洗 1~3 min(除去電解液)→熱水封閉 處 理 ( 溫 度 80 ℃ ;15~20 min)→ 冷 水 槽 冷 卻(2 min)→取出輪轂鑄件→烘干→清理檢查→完成。
2.3 微弧氧化技術(shù)設(shè)備工藝參數(shù)
鎂合金鑄件的表面積為 0.48m2,屬于表面積較大鎂合金鑄件。 電壓設(shè)定范圍 80~220 V,電流密度設(shè)定范圍為 0.8~1.5 A/dm2,氧化時(shí)間為 20~30 min,頻率設(shè)定范圍為 500~700 Hz, 占空比設(shè)定范圍為15%~25%。
3 微弧氧化設(shè)備工藝參數(shù)的影響因素
3.1 電解液濃度對(duì)微弧氧化設(shè)備工藝參數(shù)的影響
改變電解液配方的濃度范圍: 硅酸納 10~50g/L,甘 油 20~40 g/L, 氫 氧 化 鈉 1~20 g/L, 氟 化 鉀1~50 kg/L。 隨著電解液濃度增大,特別是氫氧化鈉和氟化鉀濃度的增大,堿性值越大,起弧電壓很低,很容易產(chǎn)生電火花,但對(duì)陶瓷層的溶解作用也增大,不利于陶瓷層的生成。當(dāng)其它成分不變時(shí),將硅酸納濃度提高到 50 g/L,氫氧化鈉濃度提高到 44 g/L 時(shí),電火花起弧電壓只需 70 V,但工件表面出現(xiàn)團(tuán)狀的大的弧光,這是鎂合金金屬大量燃燒的結(jié)果,等處理完畢后,檢查陶瓷層,發(fā)現(xiàn)陶瓷層呈花狀,呈不均勻分布。減少硅酸納及氫氧化鈉濃度時(shí),結(jié)果發(fā)現(xiàn)電火花起弧非常困難,起弧電壓峰值需達(dá)到 200 V 以上,且加在輪轂鑄件上的電壓、電流的波動(dòng)較大,會(huì)損壞微弧氧化電源。 經(jīng)過不斷的實(shí)驗(yàn),總結(jié)出*佳的組成溶液濃度為:甘油 32g/L,硅酸納 26g/L,氟化鉀12 kg/L,氫氧化鈉 10 g/L。
3.2 微弧氧化處理工件表面積對(duì)工藝參數(shù)的影響
為了研究工件表面積對(duì)工藝參數(shù)的影響, 在*佳的組成溶液濃度下,分別選用 0.04、0.60、1.1、1.7、2.2 和 2.9m2的鎂合金壓鑄模鑄件進(jìn)行了實(shí)驗(yàn),總結(jié)出以下規(guī)律: 微弧氧化技術(shù)電火花的出現(xiàn)前提是工件表面必須先形成一定厚度的膜層, 而且膜層的形成時(shí)間較長(zhǎng),大約需要 10~20 min,且膜層形成所需的電壓較?。浑S著壓鑄件表面積的增大,形成膜層所需的電流也在增大,但電壓變化不大;隨著膜層不斷的增厚, 形成電火花所需的電流和電壓會(huì)產(chǎn)生突變, 處于一種不穩(wěn)定狀態(tài)。 當(dāng)膜層增長(zhǎng)到一定厚度后,增加處理壓鑄件兩端的電壓到 150 V 左右時(shí),可以看到壓鑄件表面出現(xiàn)零星的電火花微弧放電,繼續(xù)增加電壓的數(shù)值,電火花微弧放電越來越劇烈,就像滿天的星星在閃耀,明亮且不斷的在跳動(dòng),這時(shí),電火花微弧放電所需的電流與電壓基本上呈線性比例的增大。當(dāng)電壓達(dá)到 180 V 時(shí),壓鑄件表面出現(xiàn)了大量的非常密集的微小的微弧放電電火花, 壓鑄件表面膜層質(zhì)量較好,光滑而均勻,在增加電壓到 200V 左右,微弧放電電火花開始變成小的電弧光,壓鑄件表面出現(xiàn)小面積坑蝕現(xiàn)象, 而此時(shí)電流的增長(zhǎng)速度則比較緩慢。再增大電壓的數(shù)值,電流基本上處于某一數(shù)值不動(dòng)時(shí),表明膜層已達(dá)到一定厚度,微弧氧化處理的化學(xué)反應(yīng)基本趨于穩(wěn)定, 電火花又出現(xiàn)零星的分布,微弧氧化處理過程也即將完成。如果此時(shí)再繼續(xù)增大電壓數(shù)值,會(huì)出現(xiàn)明顯的電弧光現(xiàn)象,且是大面積的呈現(xiàn)坑蝕現(xiàn)象膜層表面也會(huì)出現(xiàn)小裂紋, 壓鑄件微弧氧化處理后表面質(zhì)量變差。 生產(chǎn)實(shí)踐表明, 大面積壓鑄件微弧氧化表面處理技術(shù)*佳電規(guī)程為: 電壓 180 V, 電流密度 1.1 A/dm2, 頻率700 HZ,占空比 20%,氧化時(shí)間為 30 min。